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        真空磁控濺射鍍膜

        真空磁控濺射鍍膜

        真空磁控濺射鍍膜,基本原理是在真空條件下,利用氣體放電產生的高能等離子體在電磁場環境下轟擊靶材,靶材原子經過物理或化學反應,在產品表面沉積一層金屬或金屬化合物的納米薄膜,該膜層具有厚度均勻性好,附著力高,耐候性強等特點。

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        真空磁控濺射鍍膜,基本原理是在真空條件下,利用氣體放電產生的高能等離子體在電磁場環境下轟擊靶材,靶材原子經過物理或化學反應,在產品表面沉積一層金屬或金屬化合物的納米薄膜,該膜層具有厚度均勻性好,附著力高,耐候性強等特點。

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